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如何制作光刻掩膜版?

編輯:深圳市柯寶原科技有限公司時間:2021-11-24

掩蓋版,又稱光刻版。光蓋。光蓋版,英文名稱PHOTOMASK,材質為石英玻璃。蘇打玻璃。菲林版等。,通過真空鍍膜形成鉻和鉻氧化物光遮蔽層,然后通過激光或電子束光刻在遮蔽層上形成所需的精密圖案,主要用于集成電路(IC)、IC封裝、微機電(MEMS)、功率器件和分離器件、平板顯示行業(FPD)

    制作光刻掩膜版的步驟如下:

    步驟1:提供掩膜基板,在掩膜基板上涂一層光刻膠;

    步驟2:對所述光刻膠進行曝光、顯影,形成光刻膠圖案;

    步驟3:采用電鑄工藝或物理氣相沉積工藝,將一層掩膜材料沉積在金屬基板上光刻膠圖案的直孔內;

    步驟4:去除掩膜基板和光刻膠圖案,得到初始掩膜板;初始掩膜板有多個陣列布置。開口尺寸等于蒸鍍所需的設計開口尺寸的直孔通孔,以及位于兩個相鄰直孔通孔之間的擋墻;

    步驟5。在初始覆膜板的上下表面形成上光致蝕刻層圖案。下光致蝕刻層圖案;上光致蝕刻層圖案完全覆蓋擋墻上表面,下光致蝕刻層圖案僅覆蓋擋墻下表面中間部分;

    步驟6。采用化學蝕刻工藝蝕刻初始掩膜板的下表面和直孔通孔的內壁,形成斜錐角的曲線槽;曲線槽的開口尺寸自下而上逐漸減小到蒸鍍所需的設計開口尺寸;光刻掩膜版制作工藝。

    步驟7:去除上下光致刻蝕層圖案,得到掩膜板。


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